（1）真空倉體
（2）真空除塵系統
（3）真空系統
（4）測量系統
（5）工件轉臺系統
（6）等離子噴槍
（7）噴槍運動控制系統
（8）等離子和負偏壓電源
（9）送粉器
（10）氣體控制系統
（11）電氣及控制系統
（12）冷卻水循環系統
（13）除塵系統
（1）低壓噴涂環境：腔室工作壓力范圍寬泛（0.5毫巴至300毫巴），適應多種材料工藝需求。
（2）高能等離子體輸出：等離子體功率可達150kW，提供穩定且高焓值的射流，確保粒子動能充分釋放。
（3）智能化運動控制：采用六軸數控機械手與精密夾具系統，支持復雜曲面零件的均勻噴涂，承載重量可達60kg。
（4）模塊化真空系統：專為低壓高流量氣體設計，配備快速抽空與循環冷卻功能，提升工藝效率。
（1）靈活工藝窗口：通過調節等離子體功率、氣體流量及送粉速率，可準確控制涂層厚度（1微米至300微米），實現從薄致密層到厚柱狀結構的多樣化需求。
（2）預處理集成：噴涂前自動完成零件預熱與電弧清潔，減少界面污染，增強涂層結合力。
（3）復合涂層能力：支持單一運行流程內連續噴涂不同材料，無需中斷工藝，顯著提升生產效率。
（1）PS-PVD（等離子噴涂-物理氣相沉積）：通過氣化原料粉末，沉積形成柱狀晶結構，適用于熱障涂層（100-300微米），防高溫性能優異。
（2）PS-CVD（等離子噴涂-化學氣相沉積）結合氣態前驅體與等離子體能量，以高沉積速率生成類CVD薄膜（<10微米），兼具高純度與均勻性。
（3）PS-TF（等離子噴涂-薄膜技術）優化射流速度與熱焓參數，實現納米級致密涂層，適用于精密器件表面強化。
（1）航空航天：渦輪葉片熱障涂層、發動機部件防腐蝕層。
（2）能源裝備：燃料電池雙極板導電涂層、核反應堆部件防護層。
（3）醫療植入：人工關節防磨涂層、生物相容性表面改性。
（4）工業精密件：模具表面強化、半導體設備抗磨損涂層。
（1）零件裝夾準備：將需涂裝的零件裝入刺夾具。
（2） 真空環境營造：關閉傳倉門，抽真空至初始真空度。
（3）惰性氣體回填：達初始真空后，充入高純氬氣至工作壓力。
（4）表面處理：進行零件的 T/A 清洗和涂層沉積。
（5）冷卻與壓力恢復：零件降溫，回填傳送室至大氣壓力。
（6）零件卸載完成：壓力正常后，手動或用裝載機卸下零件。
（1）裝載模式：半自動或全自動工件裝載，適配批量生產與定制化需求。
（2）過程監控：集成在線光譜儀與熱成像儀，實時監測涂層質量與工藝穩定性。
（3） 擴展功能：可選配預熱腔室、多軸聯動機械手及定制化噴涂槍頭。
